等離子刻蝕是太陽能電池片的生產工藝流（liú）程（chéng）之一，其他流程有矽片檢測、表麵製絨及酸洗、擴散製結（jié）、去磷矽玻璃、鍍減反射膜、絲網印刷、快速燒結等。東莞市91视频网站真空科技有限公（gōng）司旗下的真（zhēn）空係統在等離子刻蝕中的應用是陽（yáng）能（néng）電池片製造企業所采用的（de），因為91视频网站真空係統具有真空度高、性能穩定、壽命長、操作簡單（dān）維護方便，噪音少等特點。

我們先（xiān）來（lái）了解一下等離子刻蝕是（shì）一個什麽樣的過程。

由於在擴（kuò）散過程中，即使采用背靠背擴散，矽片的所有表麵（miàn）包括邊緣（yuán）都（dōu）將不可避免地擴（kuò）散上磷。PN結的正麵（miàn）所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散（sàn）有磷的區域流（liú）到PN結的背麵，而造成短路。因此，必須對太陽能電池周（zhōu）邊的摻（chān）雜矽進行刻蝕，以去除電池邊緣（yuán）的PN結。通常采用等離子刻（kè）蝕技術完成這一工（gōng）藝。等離子刻蝕是在低壓狀態（tài）下，反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發下，產生電離（lí）並形成等離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成，反應腔體中（zhōng）的氣體在電子的撞擊下，除了轉變成離子外，還（hái）能吸（xī）收能（néng）量並形成大量的活性基團（tuán）。活性反應基團由（yóu）於擴散或（huò）者在電場作用下到達SiO2表麵，在那裏與被刻蝕材料表麵發生化學（xué）反應，並形成揮發性的反應生成物脫（tuō）離被刻蝕物質表麵，被真空係統抽出腔體。

等離子刻蝕機結構主要包括預真空室、刻蝕腔、供氣係統和真空係統四部分。

1.預真空室

預真空室的作（zuò）用是確保刻蝕腔內維持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危（wēi）險（xiǎn）性氣體（tǐ）與（yǔ）潔淨廠房隔離開來。它由（yóu）蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。

2.刻蝕腔體

刻（kè）蝕（shí）腔體是ICP 刻蝕設備的核（hé）心結構，它（tā）對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響。刻蝕腔的主要組（zǔ）成（chéng）有：上電極、ICP 射頻單元（yuán）、RF 射頻單元（yuán）、下電（diàn）極係統（tǒng）、控溫係統等組成。

3.供氣係統

供氣係統是向刻蝕腔體輸送各種刻（kè）蝕氣體，通過壓力控製器（PC）和質（zhì）量流量控製器（qì）（MFC）精準（zhǔn）的控製氣體的流速和流（liú）量。氣體供應（yīng）係統（tǒng）由氣源瓶、氣體輸（shū）送管道、控製係統、混（hún）合單元等組成。

4.真空係（xì）統

真空係統（tǒng）有兩套，分別用於預真空室和（hé）刻蝕腔體。預真空室由機械（xiè）泵單獨抽真空，隻有在預真空（kōng）室真空度達到設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機械泵和（hé）分子泵共同提供，刻蝕腔體反應生成的氣體也由真空係統排空。

91视频网站真（zhēn）空係統（tǒng）在等（děng）離子刻蝕中的應用的作用是可以除去太陽電池周邊的在擴散工藝中在矽片的表麵和周邊都（dōu）擴散了N型結，如果不去除周邊N型結會導致電池片正負極被周邊N型結連接（jiē）起來時（shí）電池正（zhèng）負（fù）極相通起不到電池的作用。如果矽片未（wèi）刻蝕或刻蝕不淨沒（méi）及時發現並下傳印刷將產生低並組片（piàn）。我們可以（yǐ）通過紅外熱成像儀（yí）檢測並判斷低（dī）並組是否由刻蝕原因產生的。