我們生產的為非晶矽薄膜太陽能電池，了解 PECVD設備及工藝需要對真空鍍膜有一個了解，並且對半導體物理及薄膜知識有一定的（de）認識。不同設備和不同類型規格的薄膜要（yào）采用適當的分切工藝，設備狀況變化時也可以通（tōng）過（guò）工藝調整給（gěi）予彌補，但工藝調整（zhěng）必須謹慎。我們先對進口真空泵及薄膜的基礎概念做一個粗略的了解。

關於進口真空泵及薄膜的基礎概念，東莞市91视频网站（kè）真空科（kē）技有限公司分為兩個方麵進行分析。

關於薄膜的基礎（chǔ）概念，有以下幾個方麵。

①薄膜：在嚴格的學術意義上，認為隻有聚集厚度小於某一特征厚度的材料才是真正的薄（báo）膜，否則便是一般的薄材料。

②特（tè）征厚度（dù）：是利用物質的（de）某些基本性質在（zài）物質聚集厚度很薄的情（qíng）況下會發生異常變化的現象而確定的，即當被選定為參考的某一物（wù）理（lǐ）性質（zhì）或機械性質開始顯示出不（bú）同於它通常所具有的特點時的厚度，便是給物質的薄膜特征厚度。可以認為（wéi）薄膜是一種（zhǒng）二維的（de）材料。

③沉積技術：

氣（qì）相沉積（將構成（chéng）薄膜的物質氣化後在沉積（jī）到襯底上）。

液相（xiàng）沉積（在（zài）液體中沉積鍍（dù）膜）。

氣（qì）相沉（chén）積：比較容易控製薄膜的組分。

液相沉積：在接近於（yú）熱平衡的條件下成膜，能獲得較妤的膜質。

薄膜的主要性能（néng）

①膜厚：越均勻（yún）越妤，一般應（yīng）控製在一個（gè）範（fàn）圍以內比如5%，這與玻璃基板尺寸有關。

②膜表麵形貌：通過掃描電（diàn）子顯微鏡（SEM）投射電子顯微鏡（jìng）（TEM）等（děng）分析表明顆粒狀態，可獲得（dé）薄膜表麵的致密情況，缺陷狀態，退（tuì）火（huǒ）處理對膜表麵的影響（xiǎng）等（děng）信息。

③膜機構特性：用Ⅹ射線衍射分析膜的組成成分，可獲得（dé）膜的純度等信息。

膜應力：薄膜內部的應力越小越好，通過退（tuì）火處理可最大程（chéng）度的釋放膜的內部應力。

④膜與（yǔ）襯底的接觸特性：主要是指薄膜與襯底之間的附著力，當然附著力越強越好，可避免薄膜（mó）出現缺失，開路等。

⑤膜的致密性：主要指的是（shì）膜（mó）層的硬度和抗磨性。避免外界劃傷引起的（de）開路現膜（mó）的化學，熱穩定性。

⑥針對金屬膜層：要求製備出（chū）的金屬膜層的電阻率（lǜ）盡可能（néng）低（dī），接近體電阻率。

關於進口（kǒu）真空泵的基礎概念

①真空：低於一個（gè）大氣（qì）壓的狀態（tài）就是真空。

②真空度：真空狀態下氣體的稀薄程度。

③標準環境條件：溫度20°C，相對濕度65%，大氣壓力101325Pa。

④真空特點：氣體分子平均自由程大；單位麵積上分（fèn）子與固體表麵碰撞幾率變小；氣（qì）體分子密度低；剩餘（yú）氣（qì）體對沉積膜的摻雜減（jiǎn）小。要想獲得高品質的薄膜就必須有一個（gè）比較理想的本底（dǐ）真空。

進口真空泵的（de）不同真空狀態下真空工藝應用

⒈粗真空（10000-1000Pa）：氣體狀態與常壓相比隻是分子數量的減少，沒（méi）有氣體空間特（tè）性的變化，分子間碰撞頻繁，此時的吸（xī）附氣體釋（shì）放可以不予考慮，氣體運動以粘滯流為主。主要是利用壓力差（chà）產生的（de）力來實現真空力學應用（真空吸引或運輸固體、液體、膠體等真空吸盤起重，真空過濾）

⒉低真空（1000-0.1Pa）：氣體分子間，分子與器壁間碰撞不相上下，氣體分子密度較小，氣（qì）體釋（shì）放也可不考慮，氣體運動（dòng）以（yǐ）中間流為主（zhǔ）。利用氣體（tǐ）分子密度降低可實現無氧化（huà）加熱，利用（yòng）氣壓降低時氣體的熱傳導和對流逐漸消失的原（yuán）理可以實現真空隔熱及絕緣（yuán），利用壓強降低液體（tǐ）沸點也降低的原理實現真空冷凍和真（zhēn）空幹燥（黑色金屬真空熔煉脫氣，真空絕緣和真空隔熱，真空冷凍及千燥，高速空氣動力學實驗中的低壓風洞）。

⒊高（gāo）真空（0.1-0.0001Pa）：氣體分（fèn）子間（jiān）相互碰撞極少，氣（qì）體分（fèn）子與（yǔ）器壁（bì）間碰撞頻繁，氣（qì）體運動以分子流為主，此時（shí）的氣體釋放是影響真（zhēn）空度（dù）及抽氣時間的一個（gè）主要原因。利（lì）用氣體分（fèn）子密度低，任（rèn）何物質與氣體殘餘分子發生化學作用微（wēi）弱的特點進行（háng）真空冶金，真空鍍膜（超純金屬、半導體材料（liào）的真空提純（chún）及精製，真空（kōng）鍍膜，離子（zǐ）注入、幹法刻蝕等表麵改性，真空器件的生產：光電管、各種粒子加速器等）。

⒋超（chāo）高真空（>0.0000Pa）：氣體分子與器壁的碰撞次數極少，氣體空間隻有固體本身的原子，幾部沒有（yǒu）別的分子或原子的存在，此時壓強的升高（gāo）除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應用：宇宙空間環境的（de）模擬，大型同步質子加速器的運轉。